自50时代至今，光学薄膜关键在镀膜加工工艺和辅日照磁控溅射加工助设计设计方案2个层面发展趋势快速。在镀膜层面，研究和运用了一系列离子基新技日照磁控溅射加工术应用。1953年，法国的Auwarter申请办理了用反应蒸发镀光学薄膜的专利权，并明确提出用离子化的汽体提升化学变化性的提议。1964年，Mattox在先人研究工作中的根基上发布离子镀系统软件。那时候的离子系统软件在10Pa工作压力和2KV的充放电工作电压下工作中，用以在金属材料上镀耐磨损和装饰设计等应用领域的涂层日照磁控溅射加工，不宜镀光学薄膜。之后，研究选用了高频率离子镀在夹层玻璃等绝缘层材料上淀积光学薄膜。70时代至今，研究和运用了离子輔助淀积、反映离子镀和等离子有机化学气相同一系列新技术应用。他们因为采用了带能离子，而给予了充足的活化能，提日照磁控溅射加工升了表层的反应速率。提升了吸咐分子的迁移性，防止产生柱型显微结构，进而不一样水平地改进了光学薄膜的特性，是光学薄膜生产制造工艺技术的研究和发展前景。
事实上，真空镀膜的发展史要远远地繁杂的多。大家看来一个这一有二百年歷史的高新科日照磁控溅射加工技过程：
『1』19新世纪
真空镀膜已经有200年的历史时间。在19新世纪可以说一直是处在探寻和预研环节。探索者的艰苦在这段时间获得集中体现日照磁控溅射加工。1805年, 逐渐研究界面张力与表面的关联(Young)。1817年, 镜片上产生减反射膜(Fraunhofer)。1839年, 逐渐研究电孤挥发(Hare)。1852年, 逐渐研究真空溅射镀膜(Grove;Pulker)。1857年, 在氢气中挥发铁丝产生塑料薄膜(Faraday;Conn)。1874年, 报导做成等离子体高聚物(Dewilde;Thenard)。1877年,塑料薄膜的真空溅射堆积研究取得成功(Wright)。1880年, 氮氧化合物液相热裂解(Sawyer;Mann)。1887年, 塑料薄膜的真空挥发(钳锅) (Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。1896年, 逐渐研发产生减反射膜的工业化学。1897年, 研究取得成功四钛酸异丙酯钨的氢氢化铝日照磁控溅射加工锂(CVD); 膜厚的电子光学干预测量方法(Wiener)。

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